지식재산처가 급변하는 글로벌 반도체 기술 패권 경쟁 속에서 국내 기업들이 고품질 특허를 조기에 확보할 수 있도록 지원 사격에 나선다. 지식재산처는 반도체 분야의 명확한 특허 판단 기준을 제시한 ‘반도체 분야 특허 심사실무안내서’를 제정하여 배포한다.

최근 반도체 산업은 극자외선(EUV) 노광공정, 비정질 탄소 하드마스크, 고대역폭메모리(HBM), 차세대 인공지능 반도체(NPU, PIM) 등 미세화·집적화·고속화가 급격히 진행되고 있다. 이에 따라 산업계에서는 반도체 산업의 특수성을 반영한 정교한 특허 심사 기준이 필요하다는 요구가 지속적으로 제기되어 왔다.

이번에 제정된 심사실무안내서는 크게 세 가지 핵심 사항에 대한 구체적인 특허성 판단 기준을 명시하고 있다. 주요 내용은 ▲발명의 실시 가능 요건 등을 다룬 ‘발명의 설명 기재요건’ ▲청구항의 불명확한 기재 여부를 판단하는 ‘청구범위 기재요건’ ▲선행기술의 결합 용이성 및 단순 설계변경 등을 검토하는 ‘진보성 등 특허요건’이다.

특히 진보성 판단과 관련하여, 선행기술에 상위개념적 구조만 언급되어 있을 뿐 출원 발명의 구체적 구성과 그로 인한 효과가 제시되지 않은 경우 선행기술로부터 진보성이 부정되지 않는다는 식의 구체적인 유형별 사례를 수록해 심사의 예측 가능성을 높였다.

김희태 지식재산처 반도체심사추진단장은 “이번 반도체 분야 특허 심사실무안내서 제정으로 심사 일관성을 높이고, 우리 반도체 기업들이 고품질 특허를 확보할 수 있을 것”이라며 “지식재산 전략 수립을 위한 여력이 없던 팹리스 및 소재·부품·장비 기업 등 중소·중견 기업들이 고품질 명세서를 작성하는 데 실질적인 지침서 역할을 할 것으로 기대한다”고 말했다.